永磁及电磁场对真空离子镀膜品质的提升

1.磁控溅射：
（1）需解决的问题：永磁体圆柱靶两端烧蚀细颈导致靶材利用率低于30%的问题，目标：一次利用率达到60%以上；
（2）需解决的问题：中频圆柱靶在电镀镍拉丝件表面镀铬的抗腐蚀性能提升，目前只能达到CASS4H或ASS8H，目标：CASS16H或ASS96H；
（3）需解决的问题：低温中频溅射时沉积速度慢，膜层缺陷大，3D工件颜色均匀性差（当a值大于4，b值大于20时），产品薄膜容易中毒发蓝，且a值上限为8，b值上限为33；目标：a值色差小于0.5，b值色差小于1，提高中毒阀值，使a值提升到12，b值提升到40.。
2.电弧离子镀膜：
（1）需解决的问题：圆柱靶两端烧蚀细颈导致靶材利用率低于20%的问题，目标：一次利用率达到60%以上；
（2）需解决的问题：当电弧靶处于自动工作时，由于引弧杆容易变形、损坏，导致点靶失败，产品未获得PVD薄膜；目标：开发不使用引弧杆的耐用机构。

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