高解析薄膜X光绕射分析
技术详细介绍
技术简介：
运用高阶X光绕射分析，进行薄膜晶相、结晶度、晶粒、织构、应力、膜厚、反射率等材料分析。技术规格：
x-ray generator: 4KW, 60KV , 100mA。电压、电流稳定性0.01%。theta 角精确度为0.0001度。 decoupled theta / 2theta drive。技术特色：
具台湾最专业X光绕射经验与数据库，产业整合服务的客制化设计。应用范围：
金属、陶瓷、半导体、光电、高分子等薄膜镀膜相关产业。