[00806069]离子掩模法制作玻璃掩埋光波导器件的方法
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技术详细介绍
该项目是一种离子掩模法制作玻璃掩埋光波导器件的方法。包括用真空蒸发或者射频溅射技术在玻璃表面淀积一层金属铝薄膜;用常规光刻工艺刻出光功分器图形,这里,将要形成波导的区域表面有金属薄膜覆盖,而非波导区的金属薄膜在光刻时被除去;接着用离子交换技术进行钾—钠离子交换制作离子掩膜;去掉金属掩膜后,进行银—钠离子交换;然后是钠离子交换使表面的钾、银离子浓度降低,形成掩埋的光波导;最后进行退火处理。本发明用交换离子层作掩膜,掩膜本身深入玻璃表层内部,具有数微米的深度,这样它不仅在深度方向上限制了离子的交换,而且在玻璃表层的横向也限制了离子的横向扩散,使波导的深宽比得到提高,有利于制作深掩埋的圆形波导。
该项目是一种离子掩模法制作玻璃掩埋光波导器件的方法。包括用真空蒸发或者射频溅射技术在玻璃表面淀积一层金属铝薄膜;用常规光刻工艺刻出光功分器图形,这里,将要形成波导的区域表面有金属薄膜覆盖,而非波导区的金属薄膜在光刻时被除去;接着用离子交换技术进行钾—钠离子交换制作离子掩膜;去掉金属掩膜后,进行银—钠离子交换;然后是钠离子交换使表面的钾、银离子浓度降低,形成掩埋的光波导;最后进行退火处理。本发明用交换离子层作掩膜,掩膜本身深入玻璃表层内部,具有数微米的深度,这样它不仅在深度方向上限制了离子的交换,而且在玻璃表层的横向也限制了离子的横向扩散,使波导的深宽比得到提高,有利于制作深掩埋的圆形波导。