[00340492]制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用
联系人：曹老师
所在地：广东深圳市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
登录后向技术服务商咨询
发布技术需求
服务免费，交易还可领红包哦
技术详细介绍
本发明提出了制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用。该制备高精度图案化的量子点发光层的方法包括：(1)在衬底的一侧涂布反转光刻胶，并对反转光刻胶进行光刻处理，以便形成纵截面为倒梯形的镂空图案；(2)对镂空图案处的衬底进行疏水处理，并沉积量子点薄膜；(3)对量子点薄膜进行交联处理；(4)剥离反转光刻胶。本发明所提出的制备方法，使用反转光刻胶后，可使得显影后光刻胶的纵截面为倒梯形结构，如此能使光刻胶更易被剥离，从而使量子点发光层图形的精度更高，进而使制备量子点发光层图形方法的良品率显著提高。