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[00337822]大气等离子体化学平坦化方法及装置

交易价格: 面议

所属行业: 其他机械

类型: 发明专利

技术成熟度: 通过中试

专利所属地:中国

专利号:CN103854993A

交易方式: 资料待完善

联系人: 哈尔滨工业大学

进入空间

所在地:黑龙江哈尔滨市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

本发明涉及一种大气等离子体化学平坦化方法及装置,属于机械制造技术领域。本发明为解决现有CMP等全局平坦化方法存在的如加工选择性不高、去除速率不均、清洗困难等问题。方法在大气压下激发等离子体和活性原子,通过活性原子与工件表面原子间的化学反应实现材料的去处,高处形貌的反应速率大于低处形貌的反应速率,从而实现表面的平坦化。装置的水冷电极置于成型电极上方,并共同设置于保持架内,保持架下端面设有放电挡板,保持架与台座间形成气流缓冲间隙,成型电极下端面与水冷吸附工作台上端面间形成放电间隙,射频电源通过阻抗匹配器与电极连接。本发明适用于硅晶圆、碳化硅/蓝宝石衬底、光伏电池薄膜层等的平坦化加工。
本发明涉及一种大气等离子体化学平坦化方法及装置,属于机械制造技术领域。本发明为解决现有CMP等全局平坦化方法存在的如加工选择性不高、去除速率不均、清洗困难等问题。方法在大气压下激发等离子体和活性原子,通过活性原子与工件表面原子间的化学反应实现材料的去处,高处形貌的反应速率大于低处形貌的反应速率,从而实现表面的平坦化。装置的水冷电极置于成型电极上方,并共同设置于保持架内,保持架下端面设有放电挡板,保持架与台座间形成气流缓冲间隙,成型电极下端面与水冷吸附工作台上端面间形成放电间隙,射频电源通过阻抗匹配器与电极连接。本发明适用于硅晶圆、碳化硅/蓝宝石衬底、光伏电池薄膜层等的平坦化加工。

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