[00335302]一种CM/EPDM共混胶单相刻蚀的方法及提高表征橡胶共混物微观结构时分辨率的方法
交易价格：
面议
所属行业：
专用化学
类型：
发明专利
技术成熟度：
通过小试
专利所属地：中国
专利号：CN201710043142.X
交易方式：
资料待完善
联系人：
安徽大学
进入空间
所在地：安徽合肥市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：本发明公开了一种CM/EPDM共混胶单相刻蚀的方法及提高表征橡胶共混物微观结构时分辨率的方法，通过硫化体系硫化CM/EPDM共混胶中的CM相，而保持EPDM相处于未硫化状态；随后利用刻蚀剂将CM/EPDM共混胶中的EPDM相从共混体系中刻蚀掉形成孔洞，留下未被刻蚀的CM相，再利用易挥发的溶剂将多余的刻蚀剂从共混胶中萃取出来，干燥后即可。通过对共混橡胶中的一相进行硫化形成网状结构使其在刻蚀过程中保持稳定结构而不被溶剂侵蚀，将未硫化相刻蚀，形成可观测的表面形貌。
摘要：本发明公开了一种CM/EPDM共混胶单相刻蚀的方法及提高表征橡胶共混物微观结构时分辨率的方法，通过硫化体系硫化CM/EPDM共混胶中的CM相，而保持EPDM相处于未硫化状态；随后利用刻蚀剂将CM/EPDM共混胶中的EPDM相从共混体系中刻蚀掉形成孔洞，留下未被刻蚀的CM相，再利用易挥发的溶剂将多余的刻蚀剂从共混胶中萃取出来，干燥后即可。通过对共混橡胶中的一相进行硫化形成网状结构使其在刻蚀过程中保持稳定结构而不被溶剂侵蚀，将未硫化相刻蚀，形成可观测的表面形貌。
