[00333302]一种磨粒流微孔抛光装置及其抛光工艺
交易价格：
面议
所属行业：
雕刻切割
类型：
实用新型专利
技术成熟度：
通过小试
专利所属地：中国
专利号：CN201410611277.8
交易方式：
资料待完善
联系人：
厦门立德软件公司
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所在地：
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资料保密
对所交付的所有资料进行保密
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技术详细介绍
本发明公开了一种磨粒流微孔抛光装置，其包括用于夹持工件并使工件的微孔定位的夹具、安装于夹具的基座板、设于基座板和夹具内并与微孔对应连通的空腔、设于空腔内将该空腔分隔为空化腔和储液腔的间隔器件、盖于空化腔的激光高透保护镜、可产生朝向空化腔的激光束的激光器、位于激光器与激光高透保护镜之间将激光束聚焦于空化腔中的聚焦透镜、可将去离子水引入空化腔的引流通道、设于引流通道的单向阀。利用激光聚焦对去离子水形成空化，形成巨大的局部压力，冲击间隔器件，将磨粒流体高速流动推送到微孔中，摩擦微孔孔壁降低微孔内表面的粗糙度实现对微孔抛光。本发明还公开了一种高效率对微孔进行超精密抛光的磨粒流微孔抛光工艺。
本发明公开了一种磨粒流微孔抛光装置，其包括用于夹持工件并使工件的微孔定位的夹具、安装于夹具的基座板、设于基座板和夹具内并与微孔对应连通的空腔、设于空腔内将该空腔分隔为空化腔和储液腔的间隔器件、盖于空化腔的激光高透保护镜、可产生朝向空化腔的激光束的激光器、位于激光器与激光高透保护镜之间将激光束聚焦于空化腔中的聚焦透镜、可将去离子水引入空化腔的引流通道、设于引流通道的单向阀。利用激光聚焦对去离子水形成空化，形成巨大的局部压力，冲击间隔器件，将磨粒流体高速流动推送到微孔中，摩擦微孔孔壁降低微孔内表面的粗糙度实现对微孔抛光。本发明还公开了一种高效率对微孔进行超精密抛光的磨粒流微孔抛光工艺。
