[00331805]一种等离子体激元增强量子点光学膜的制备方法
交易价格：
面议
所属行业：
其他电气自动化
类型：
发明专利
技术成熟度：
通过小试
专利所属地：中国
专利号：CN201510281169.3
交易方式：
资料待完善
联系人：
福州大学
进入空间
所在地：福建福州市
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- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：本发明涉及一种等离子体激元增强量子点光学膜的制备方法，利用旋涂成膜工艺技术，在ITO玻璃衬底上，分别以金属量子点层作为等离子激元增强层、以有机高分子化合物作为隔离层、以CdSe量子点/有机高分子复合膜层作为光致发光层，制备等离子体激元增强量子点光学膜。本发明所提出的制备方法新颖，制作成本低，制备工艺简单。此外，由于采用简单的旋涂工艺技术，实现复合膜中各个膜层厚度精确可控，分散性良好，充分利用高分子有机物对金属量子点与半导体量子点间距的阻隔和调控，实现金属量子点对半导体量子点处光场强度分布等参数有效控制，有效提高其量子点光学膜的光致发光性能，在新型光电显示器件中将具有非常重要的应用价值。
摘要：本发明涉及一种等离子体激元增强量子点光学膜的制备方法，利用旋涂成膜工艺技术，在ITO玻璃衬底上，分别以金属量子点层作为等离子激元增强层、以有机高分子化合物作为隔离层、以CdSe量子点/有机高分子复合膜层作为光致发光层，制备等离子体激元增强量子点光学膜。本发明所提出的制备方法新颖，制作成本低，制备工艺简单。此外，由于采用简单的旋涂工艺技术，实现复合膜中各个膜层厚度精确可控，分散性良好，充分利用高分子有机物对金属量子点与半导体量子点间距的阻隔和调控，实现金属量子点对半导体量子点处光场强度分布等参数有效控制，有效提高其量子点光学膜的光致发光性能，在新型光电显示器件中将具有非常重要的应用价值。
