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[00302872]一种可剥离衬底的薄膜电容器制备方法

交易价格: 面议

所属行业: 其他电气自动化

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201510449369.5

交易方式: 技术转让 技术转让 技术入股

联系人: 桂林电子科技大学

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所在地:广西壮族自治区桂林市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

本发明公开了一种可剥离衬底的薄膜电容器制备方法。

其工艺步骤为:①在衬底上旋涂一定厚度的聚胺脂胶层,并用紫外光固化;②采用溶胶凝胶或溅射法制备介质层;③采用溅射法制备电极层,并利用激光刻蚀获得图案化电极图层;④再按介质层/电极图层/介质层/电极图层的方式依次制备,并在电容器长边的两端制备端电极,形成叉指结构的单层或多层薄膜电容器;⑤将上述薄膜电容器放入电阻炉,在一定温度进行退火处理,使介质层晶化并烧掉有机层,实现薄膜电容器从衬底上的剥离。

本发明无需使用酸或碱等腐蚀物质即可实现器件与衬底的剥离,具有工艺简单、易于工业化的特点,特别适合于制作各种单层或多层薄膜元器件。

本发明公开了一种可剥离衬底的薄膜电容器制备方法。

其工艺步骤为:①在衬底上旋涂一定厚度的聚胺脂胶层,并用紫外光固化;②采用溶胶凝胶或溅射法制备介质层;③采用溅射法制备电极层,并利用激光刻蚀获得图案化电极图层;④再按介质层/电极图层/介质层/电极图层的方式依次制备,并在电容器长边的两端制备端电极,形成叉指结构的单层或多层薄膜电容器;⑤将上述薄膜电容器放入电阻炉,在一定温度进行退火处理,使介质层晶化并烧掉有机层,实现薄膜电容器从衬底上的剥离。

本发明无需使用酸或碱等腐蚀物质即可实现器件与衬底的剥离,具有工艺简单、易于工业化的特点,特别适合于制作各种单层或多层薄膜元器件。

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