[00300991]光刻机工件台的一体式平衡质量装置
交易价格：
面议
所属行业：
其他仪器仪表
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201510465244.1
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
哈尔滨工业大学
进入空间
所在地：黑龙江哈尔滨市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：光刻机工件台的一体式平衡质量装置，属于半导体制造装备技术领域，本发明为解决现有光刻机平衡技术采用两个平衡质量块存在同步设计难度大的问题。本发明包括基础框架、平衡质量块、垂向气浮垫、Y向直线电机导轨部分、X向运动机构、平衡质量块直线电机部分六个部分。平衡质量块底面四个角上分别固定一个垂向气浮垫，用以通过气浮隔离底部的基础框架从而实现系统的隔振与低摩擦运动。平衡质量块上平面上安装两条Y向直线电机的导轨，作为Y向直线电机的定子部分，X向导轨部分安装在Y向直线电机导轨上，平衡质量块电机驱动平衡质量块运动，从而对由于X向导轨反作用力造成的平衡质量块的偏移进行补偿，使平衡质量块重新回到平衡位置。
摘要：光刻机工件台的一体式平衡质量装置，属于半导体制造装备技术领域，本发明为解决现有光刻机平衡技术采用两个平衡质量块存在同步设计难度大的问题。本发明包括基础框架、平衡质量块、垂向气浮垫、Y向直线电机导轨部分、X向运动机构、平衡质量块直线电机部分六个部分。平衡质量块底面四个角上分别固定一个垂向气浮垫，用以通过气浮隔离底部的基础框架从而实现系统的隔振与低摩擦运动。平衡质量块上平面上安装两条Y向直线电机的导轨，作为Y向直线电机的定子部分，X向导轨部分安装在Y向直线电机导轨上，平衡质量块电机驱动平衡质量块运动，从而对由于X向导轨反作用力造成的平衡质量块的偏移进行补偿，使平衡质量块重新回到平衡位置。
