[00294919]离子型阴极缓冲层材料及其制备方法与应用
交易价格：
面议
所属行业：
合成化学
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN200810029162.2
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
华南理工大学
进入空间
所在地：广东广州市
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资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：本发明公开了离子型阴极缓冲层材料及其制备方法与应用，该缓冲层材料具有电子注入/传输功能，在化学结构上以苯为中心，通过接入刚性端基并调节阴离子基团种类，使得所制备的阴极缓冲层材料兼具醇溶性和非晶态特性。该离子型阴极缓冲层材料可通过醇溶液旋涂法制备均匀薄膜，且可不破坏醇溶剂为不良溶剂的发光薄膜层。同时，在使用此类阴极缓冲层材料后，电致发光器件性能可以与使用Ba/Al电极的器件性能相当，从而可避免使用在空气中不稳定的低功函数金属电极。本发明具有制备简单和材料易于提纯、成膜、长期稳定性好的优点。
摘要：本发明公开了离子型阴极缓冲层材料及其制备方法与应用，该缓冲层材料具有电子注入/传输功能，在化学结构上以苯为中心，通过接入刚性端基并调节阴离子基团种类，使得所制备的阴极缓冲层材料兼具醇溶性和非晶态特性。该离子型阴极缓冲层材料可通过醇溶液旋涂法制备均匀薄膜，且可不破坏醇溶剂为不良溶剂的发光薄膜层。同时，在使用此类阴极缓冲层材料后，电致发光器件性能可以与使用Ba/Al电极的器件性能相当，从而可避免使用在空气中不稳定的低功函数金属电极。本发明具有制备简单和材料易于提纯、成膜、长期稳定性好的优点。
