[00286819]TaVCN硬质纳米结构薄膜及制备方法
交易价格：
面议
所属行业：
化工生产
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201410131115.4
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
江苏科技大学
进入空间
所在地：江苏镇江市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本文发明公开了一种TaVCN硬质纳米结构薄膜及其制备方法，其特征在于是该薄膜采用多靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上制备得到，薄膜分子式为(Ta,V)CN，厚度在1-3μm，V含量为0-40at.%。沉积时，真空度优于3.0×10-3Pa,以氩气起弧，氮气为反应气体进行沉积，溅射气压0.3Pa、氩氮流量比10:（2-5），Ta靶功率为80-150W，C靶功率为40-60W，V靶功率为0-100W。所得硬质涂层综合具备了高硬度，高耐磨性的优良特点。
本文发明公开了一种TaVCN硬质纳米结构薄膜及其制备方法，其特征在于是该薄膜采用多靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上制备得到，薄膜分子式为(Ta,V)CN，厚度在1-3μm，V含量为0-40at.%。沉积时，真空度优于3.0×10-3Pa,以氩气起弧，氮气为反应气体进行沉积，溅射气压0.3Pa、氩氮流量比10:（2-5），Ta靶功率为80-150W，C靶功率为40-60W，V靶功率为0-100W。所得硬质涂层综合具备了高硬度，高耐磨性的优良特点。
