[00281020]一种低共熔溶剂电沉积亮铬镀层的方法
交易价格：
面议
所属行业：
其他化学化工
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201610267769.9
交易方式：
技术转让
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技术入股
联系人：
昆明理工大学
进入空间
所在地：云南昆明市
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- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明涉及一种低共熔溶剂电沉积亮铬镀层的方法，涉及表面工程和表面处理技术。在惰气环境下，首先在电解槽中加入低共熔溶剂，然后向低共熔溶剂中加入氧化铬，制备得到低共熔溶剂电解液；以石墨为阳极，预处理后的基体为阴极，在上述步骤制备得到的低共熔溶剂电解液中电沉积，将电积后的基体经丙酮、蒸馏水冲洗，干燥后即可在基体上得到一层亮铬镀层。本发明制得的亮铬镀层光亮致密平整，与基体结合能力强，耐磨性及耐腐蚀性优异。
本发明涉及一种低共熔溶剂电沉积亮铬镀层的方法，涉及表面工程和表面处理技术。在惰气环境下，首先在电解槽中加入低共熔溶剂，然后向低共熔溶剂中加入氧化铬，制备得到低共熔溶剂电解液；以石墨为阳极，预处理后的基体为阴极，在上述步骤制备得到的低共熔溶剂电解液中电沉积，将电积后的基体经丙酮、蒸馏水冲洗，干燥后即可在基体上得到一层亮铬镀层。本发明制得的亮铬镀层光亮致密平整，与基体结合能力强，耐磨性及耐腐蚀性优异。
