[00274659]基于重构-等效啁啾和纳米压印制备DFB激光器及阵列的方法
交易价格：
面议
所属行业：
光学仪器
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201510763227.6
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
南京大学
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所在地：江苏南京市
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对所交付的所有资料进行保密
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技术详细介绍
基于重构-等效啁啾和纳米压印技术制备的DFB激光器制备方法，DFB激光器腔的起选模作用的光栅为啁啾光栅结构，DFB激光器腔内起选模作用的光栅是基于重构-等效啁啾和纳米压印技术设计、并制备的取样布拉格光栅；该取样布拉格光栅结构中含有对应普通布拉格光栅的等效光栅,该等效光栅中含有对应传统相移的等效相移，等效相移区的位置在取样布拉格光栅中心的+/-15％的区域范围内，制备取样布拉格光栅的基本光栅是通过纳米压印技术制备的；基本布拉格光栅是由纳米压印技术制备的均匀光栅，然后用基于重构-等效啁啾技术设计的取样版进行采样制备目标等效相移的光栅即啁啾光栅。
基于重构-等效啁啾和纳米压印技术制备的DFB激光器制备方法，DFB激光器腔的起选模作用的光栅为啁啾光栅结构，DFB激光器腔内起选模作用的光栅是基于重构-等效啁啾和纳米压印技术设计、并制备的取样布拉格光栅；该取样布拉格光栅结构中含有对应普通布拉格光栅的等效光栅,该等效光栅中含有对应传统相移的等效相移，等效相移区的位置在取样布拉格光栅中心的+/-15％的区域范围内，制备取样布拉格光栅的基本光栅是通过纳米压印技术制备的；基本布拉格光栅是由纳米压印技术制备的均匀光栅，然后用基于重构-等效啁啾技术设计的取样版进行采样制备目标等效相移的光栅即啁啾光栅。
