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[00253433]一种厚度可控的液相外延薄膜制备装置

交易价格: 面议

所属行业: 其他橡胶塑料

类型: 实用新型专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201120551449.9

交易方式: 技术转让 技术转让 技术入股

联系人: 科小易

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所在地:福建厦门市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

一种厚度可控的液相外延薄膜制备装置,包括(1)籽晶秆;(2)衬底;(3)炉盖,(4)发热体,(5)炉膛壁,(6)熔体,(7)坩埚,(8)耐火砖,(9)保温砖,(10)炉壳,(11)陶瓷发热体。陶瓷发热体(11)的特征是它受一个独立的温度控制系统控制,其位置是位于籽晶秆和衬底之间,与衬底直接相连。发热体(4)和陶瓷发热体(11)均具有各自独立的温度控制系统;本实用新型通过设置陶瓷发热体,通过控制位于陶瓷发热体下是衬底的温度,以调节被衬底吸附的熔体的粘度,影响熔体在籽晶秆旋转主用下被甩熔体的量,使衬底底部吸附的熔体表面平整,并达到影响膜厚度的效果,保证垂直浸渍液相外延膜生长方法能够生长所需要的膜。
一种厚度可控的液相外延薄膜制备装置,包括(1)籽晶秆;(2)衬底;(3)炉盖,(4)发热体,(5)炉膛壁,(6)熔体,(7)坩埚,(8)耐火砖,(9)保温砖,(10)炉壳,(11)陶瓷发热体。陶瓷发热体(11)的特征是它受一个独立的温度控制系统控制,其位置是位于籽晶秆和衬底之间,与衬底直接相连。发热体(4)和陶瓷发热体(11)均具有各自独立的温度控制系统;本实用新型通过设置陶瓷发热体,通过控制位于陶瓷发热体下是衬底的温度,以调节被衬底吸附的熔体的粘度,影响熔体在籽晶秆旋转主用下被甩熔体的量,使衬底底部吸附的熔体表面平整,并达到影响膜厚度的效果,保证垂直浸渍液相外延膜生长方法能够生长所需要的膜。

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