[00253339]一种用于晶圆缺陷检测的结构光合成装置
交易价格：
面议
所属行业：
合成化学
类型：
实用新型专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201620906663.4
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
科小易
进入空间
所在地：福建厦门市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本实用新型属于光学技术领域，公开了一种用于晶圆缺陷检测的结构光合成装置，包括：光源，所述光源用于发出检测光；分束器，所述分束器接收所述检测光，将所述检测光进行分束，形成两路光束；第一反射镜，所述第一反射镜接收所述两路光束，并将所述两路光束以对称方式传输，使所述两路光束从不同方向斜入射至待测晶圆上，形成光斑；其中，所述两路光束与所述待测晶圆垂直法线之间的夹角相同，所述两路光束在所述待测晶圆上形成的所述光斑完全重叠；所述两路光束从所述分束器至所述待测晶圆上经过的光程相同。本实用新型解决的技术问题是提供一种用于晶圆缺陷检测的结构光合成装置，同时实现相干光束合成与斜入射，且结构光周期易调节。
本实用新型属于光学技术领域，公开了一种用于晶圆缺陷检测的结构光合成装置，包括：光源，所述光源用于发出检测光；分束器，所述分束器接收所述检测光，将所述检测光进行分束，形成两路光束；第一反射镜，所述第一反射镜接收所述两路光束，并将所述两路光束以对称方式传输，使所述两路光束从不同方向斜入射至待测晶圆上，形成光斑；其中，所述两路光束与所述待测晶圆垂直法线之间的夹角相同，所述两路光束在所述待测晶圆上形成的所述光斑完全重叠；所述两路光束从所述分束器至所述待测晶圆上经过的光程相同。本实用新型解决的技术问题是提供一种用于晶圆缺陷检测的结构光合成装置，同时实现相干光束合成与斜入射，且结构光周期易调节。
