[00252237]一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗方法
交易价格：
面议
所属行业：
清洁生产与循环经济
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201710146670.8
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
科小易
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所在地：福建厦门市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明公开了一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗方法，包括上料、超声清洗、喷淋清洗、烘干出料和循环回收步骤。本发明能够有效解决对无磨料水溶解超精密抛光后的诸如KDP类的光学晶体元件的清洗问题。由于本发明清洗过程中没有固体颗粒物质，使用高频超声的冲刷作用和风淋等非接触式的清洗措施，防止了外力对软脆光学元件造成损害，保证了清洗元件的表面质量。本发明实现了对光学元件的多工位自动化清洗，并且将清洗过程中易挥发清洗液产生的挥发废气和清洗废液引导入循环回收系统，进行冷凝液化后回收再利用，实现环保无排放清洗，减少了浪费，防止了环境污染，提高了经济性。本发明的清洗参数实时可调，使清洗过程易于控制。
本发明公开了一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗方法，包括上料、超声清洗、喷淋清洗、烘干出料和循环回收步骤。本发明能够有效解决对无磨料水溶解超精密抛光后的诸如KDP类的光学晶体元件的清洗问题。由于本发明清洗过程中没有固体颗粒物质，使用高频超声的冲刷作用和风淋等非接触式的清洗措施，防止了外力对软脆光学元件造成损害，保证了清洗元件的表面质量。本发明实现了对光学元件的多工位自动化清洗，并且将清洗过程中易挥发清洗液产生的挥发废气和清洗废液引导入循环回收系统，进行冷凝液化后回收再利用，实现环保无排放清洗，减少了浪费，防止了环境污染，提高了经济性。本发明的清洗参数实时可调，使清洗过程易于控制。
