[00244190]一种X射线组合折射透镜聚焦光学系统优化方法
交易价格：
面议
所属行业：
核能及氢能
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201610030914.1
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
浙江工业大学
进入空间
所在地：浙江杭州市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
一种X射线组合折射透镜聚焦光学系统优化方法，该优化方法以具有不同单元数量和面型结构的X射线组合折射透镜系列、入射X射线光子波长和期望焦距为输入设计参量，以X射线组合折射透镜的选择和排列结果为输出设计参量，以聚焦光学系统焦距作为第一优化条件，根据聚焦光学系统容差得到初步优化方案。本发明提供一种优化参数、提高性能、扩大应用范围的X射线组合折射透镜聚焦光学系统优化方法。
一种X射线组合折射透镜聚焦光学系统优化方法，该优化方法以具有不同单元数量和面型结构的X射线组合折射透镜系列、入射X射线光子波长和期望焦距为输入设计参量，以X射线组合折射透镜的选择和排列结果为输出设计参量，以聚焦光学系统焦距作为第一优化条件，根据聚焦光学系统容差得到初步优化方案。本发明提供一种优化参数、提高性能、扩大应用范围的X射线组合折射透镜聚焦光学系统优化方法。
