[00243983]一种高精度球高效研磨/抛光加工方法
交易价格：
面议
所属行业：
雕刻切割
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN200910099188.9
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
浙江工业大学
进入空间
所在地：浙江杭州市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
一种高精度球高效研磨/抛光加工方法，实现该加工方法的加工设备中，由下研磨盘内盘外侧的锥面研磨面和下研磨盘外盘内侧的锥形研磨面构成V形槽结构，载荷加压装置通过上研磨盘作用于球坯，所述的V形槽结构和上研磨盘一起构成研磨球的三个加工接触点，所述上研磨盘、下研磨盘外盘和下研磨内盘具有相同的回转轴；在所述的上研磨盘、下研磨盘外盘和下研磨内盘中，其中两个盘的转轴分别由电机驱动；通过调整ΩB和ΩC的速度组合，使陶瓷球作“变相对方位”，使研磨轨迹均匀分布在球的表面上，实现对陶瓷球表面的均匀研磨。本发明既能实现较高的加工精度和加工效率，又具备加工装置结构简单、制造成本较低。
一种高精度球高效研磨/抛光加工方法，实现该加工方法的加工设备中，由下研磨盘内盘外侧的锥面研磨面和下研磨盘外盘内侧的锥形研磨面构成V形槽结构，载荷加压装置通过上研磨盘作用于球坯，所述的V形槽结构和上研磨盘一起构成研磨球的三个加工接触点，所述上研磨盘、下研磨盘外盘和下研磨内盘具有相同的回转轴；在所述的上研磨盘、下研磨盘外盘和下研磨内盘中，其中两个盘的转轴分别由电机驱动；通过调整ΩB和ΩC的速度组合，使陶瓷球作“变相对方位”，使研磨轨迹均匀分布在球的表面上，实现对陶瓷球表面的均匀研磨。本发明既能实现较高的加工精度和加工效率，又具备加工装置结构简单、制造成本较低。
