[00242396]吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法
交易价格：
面议
所属行业：
铸造/热处理
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201410648672.3
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
中国建筑材料科学研究总院
进入空间
所在地：北京北京市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：本发明涉及太阳光选择性吸收涂层领域，尤其是一种吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法。所述吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法，包括以下步骤：基底层清洗；采用镀膜方法在基底层上制备红外反射层；采用镀膜方法在红外反射层上制备吸收层；采用镀膜方法在吸收层上制备减反层；所述的吸收层自下而上依次包括金属亚层、半导体锗亚层和以及金属氮氧化物亚层，所述金属亚层、半导体锗亚层和以及金属氮氧化物亚层均采用镀膜方法依次制备。所述吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层是由上述制备方法制备的。本发明公开的涂层制备工艺简单、镀膜设备所需条件要求低，适用于大规模低成本生产。
摘要：本发明涉及太阳光选择性吸收涂层领域，尤其是一种吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法。所述吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法，包括以下步骤：基底层清洗；采用镀膜方法在基底层上制备红外反射层；采用镀膜方法在红外反射层上制备吸收层；采用镀膜方法在吸收层上制备减反层；所述的吸收层自下而上依次包括金属亚层、半导体锗亚层和以及金属氮氧化物亚层，所述金属亚层、半导体锗亚层和以及金属氮氧化物亚层均采用镀膜方法依次制备。所述吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层是由上述制备方法制备的。本发明公开的涂层制备工艺简单、镀膜设备所需条件要求低，适用于大规模低成本生产。
