[00241991]三相溶剂气助萃取分段进气可控返混连续萃取装置
交易价格：
面议
所属行业：
机械分离
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201010164868.7
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
中国科学院过程工程研究所
进入空间
所在地：北京北京市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：一种三相溶剂气助萃取分段进气可控返混连续萃取装置，其由下相气助传质组件、上中相完全混合组件和上中相澄清组件组成；采用分段鼓气和上中相完全混合，下相气助传质室底部和上中相完全混合室底部分别设气体分布器分段进气，进气流量分段控制；下相气助传质室分别设盐水相进口和出口；在上中相完全混合室设有机溶剂入口和聚合物相入口，上中相完全混合室底部设其上置填料层的分布板，上中相完全混合室一侧的上下各开一回流孔，回流孔内侧分别设弯曲型挡板；上中相环状分相室设有机溶剂出口和聚合物相出口；该装置结合三相萃取和气助溶剂萃取优势，防止盐水相与有机溶剂完全混合，节省用气量，促进上相和中间相传质速率，特别适于多组分分级提纯。
摘要：一种三相溶剂气助萃取分段进气可控返混连续萃取装置，其由下相气助传质组件、上中相完全混合组件和上中相澄清组件组成；采用分段鼓气和上中相完全混合，下相气助传质室底部和上中相完全混合室底部分别设气体分布器分段进气，进气流量分段控制；下相气助传质室分别设盐水相进口和出口；在上中相完全混合室设有机溶剂入口和聚合物相入口，上中相完全混合室底部设其上置填料层的分布板，上中相完全混合室一侧的上下各开一回流孔，回流孔内侧分别设弯曲型挡板；上中相环状分相室设有机溶剂出口和聚合物相出口；该装置结合三相萃取和气助溶剂萃取优势，防止盐水相与有机溶剂完全混合，节省用气量，促进上相和中间相传质速率，特别适于多组分分级提纯。
