技术详细介绍
适于光化学反应的新型聚合物基微流体反应器及制备方法
专利号：CN200810113777
发明人：杨万泰；刘佳；马育红；刘莲英
专利摘要：适于光化学反应的新型聚合物基微流体反应器及制备方法属于聚合物基微流体反应器制造技术领域。该反应器制备方法：在PMMA基体的进出口位置加工出与外部设备连接的顶部未打通的螺纹孔；PMMA表面旋涂EA51胶层进行表面改性；在EA51胶层表面旋涂SU8胶层，并进行前烘、曝光及后烘三步工艺；对SU8胶层未曝光部分进行显影形成微流道图案；打通进出口；在羟基化处理过的BOPP膜表面旋涂一层EA51胶层形成封盖胶层；对微流道图案进行封盖，在紧密压实的状态下对顶部封盖层曝光使胶层完全固化，便形成了封闭的微流通道。将内部套紧导管的PEEK螺钉拧入螺纹孔。本发明解决了目前微流体反应器制造中常见问题，实现了光照合成纳米颗粒，聚合物微球等微粒的全有机透明微流体反应器。