联系人:马俊飞
所在地:辽宁沈阳市
应用范围
应用于大规模集成电路等离子体刻蚀腔体表面防护。
技术简介
采用冷喷涂在铝合金腔体表面喷涂防护涂层,及对铸造铝合金缺陷进行修复,满足其使用要求。该技术提供一种等离子刻蚀腔体表面防护涂层的制备方法,制备的涂层能减少或阻止腐蚀性气体对腔体的腐蚀和金属离子对半导体晶片的污染,提高等离子体刻蚀晶片生产中反应室腔体材料的使用寿命。
主要指标(特点)
利用冷喷涂低温高速的特点,一方面在铝合金腔体表面喷涂防护涂层,解决铝合金在强腐蚀介质中的腐蚀问题,同时保持铝合金零部件的尺寸精度;另一方面也可以对具有铸造缺陷或磨损的铝合金部件进行修复,满足其使用要求。