联系人:于世远
所在地:浙江宁波市
高功率半导体器件在5G通信、新能源车和航空航天等领域扮演着关键角色,其微型化与高度集成化趋势导致电子设备发热 量激增,热失效成为制约设备性能与寿命的首要挑战。因此,芯片的热管理至关重要,而Si3N4陶瓷基板作为解决芯片散热问题的核心部件,市场需求旺盛。全球陶瓷基板市场在2024年突破80亿美元,日本企业占据主导地位,其中东芝的 Si3N4陶瓷基板在热导率、电阻率、力学性能等关键指标上领先世界,但对中国实施严格限供。
为打破这一局面,实现国产替代,本成果采用低成本国产Si粉替代进口Si3N4粉,结合高效烧结助剂,立足流延成型的连续化制造技术,通过“低温氮化 - 气压烧结”法制备高热导率 Si3N4陶瓷基板,关键技术突破后形成了完全自主可控的产品研制和开发能力。该产品不仅导热、绝缘、力学性能指标超越日本东芝同类产品,还具备显著的低成本优势,展现出强大的市场竞争力和发展潜力。