[00019495]一种非制冷红外探测器隔热衬底制作方法
交易价格：
面议
所属行业：
类型：
非专利
技术成熟度：
正在研发
交易方式：
技术转让
联系人：
齐晴
进入空间
所在地：上海崇明
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
技术投资分析：
采用阳极氧化法制作多孔硅，然后在多孔硅上淀积一层过渡层氮化硅薄膜，制作成非制冷红外探测器隔热衬底，尔后的器件制作就在这一层氮化硅薄膜上进行。
由于在多孔硅与红外材料之间插入了一种中间过渡层，改善了由于多孔硅造成的表面不平将可以大幅度提高红外材料的晶体质量，从而提高器件的性能。
技术的应用领域前景分析：
本发明涉及一种非制冷红外探测器隔热衬底制作方法，属于微机电系统领域。
效益分析：
随着应用范围的扩大，效用辐射面扩大，必定产生良好经济效益。
厂房条件建议：
无
备注：
无
技术投资分析：
采用阳极氧化法制作多孔硅，然后在多孔硅上淀积一层过渡层氮化硅薄膜，制作成非制冷红外探测器隔热衬底，尔后的器件制作就在这一层氮化硅薄膜上进行。
由于在多孔硅与红外材料之间插入了一种中间过渡层，改善了由于多孔硅造成的表面不平将可以大幅度提高红外材料的晶体质量，从而提高器件的性能。
技术的应用领域前景分析：
本发明涉及一种非制冷红外探测器隔热衬底制作方法，属于微机电系统领域。
效益分析：
随着应用范围的扩大，效用辐射面扩大，必定产生良好经济效益。
厂房条件建议：
无
备注：
无
