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[01583470]一种基于SOI晶圆双掩膜刻蚀的垂直梳齿驱动微扭转镜及其制作方法

交易价格: 面议

所属行业: 光学仪器

类型: 非专利

交易方式: 资料待完善

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技术详细介绍

本发明公开了一种基于SOI晶圆双掩膜刻蚀的垂直梳齿驱动微扭转镜及其制作方法,属于微机电系统领域及微细加工领域。该微扭转镜为单边梳齿驱动,具有三层相同结构的可动部分和固定部分。通过给不同的梳齿对施加电压信号,微扭转镜可工作在静态方式或动态方式。该垂直梳齿驱动微扭转镜的制作方法,特征在于采用单片SOI硅片加工,不需要多层薄膜的淀积或键合工艺;整个工艺过程只需要两张掩膜板;上下垂直梳齿利用一张掩膜刻蚀完成,不存在梳齿的对准偏差问题;工艺过程中不需要HF腐蚀,可以有效避免液体环境导致的梳齿间粘附。该制作方法具有精度高、成本低、应力小、成品率高、工艺简单、可重复性好、易批量生产等优点。
本发明公开了一种基于SOI晶圆双掩膜刻蚀的垂直梳齿驱动微扭转镜及其制作方法,属于微机电系统领域及微细加工领域。该微扭转镜为单边梳齿驱动,具有三层相同结构的可动部分和固定部分。通过给不同的梳齿对施加电压信号,微扭转镜可工作在静态方式或动态方式。该垂直梳齿驱动微扭转镜的制作方法,特征在于采用单片SOI硅片加工,不需要多层薄膜的淀积或键合工艺;整个工艺过程只需要两张掩膜板;上下垂直梳齿利用一张掩膜刻蚀完成,不存在梳齿的对准偏差问题;工艺过程中不需要HF腐蚀,可以有效避免液体环境导致的梳齿间粘附。该制作方法具有精度高、成本低、应力小、成品率高、工艺简单、可重复性好、易批量生产等优点。

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