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[00152042]用于百兆级850nm光通讯的光接收组件和制备方法

交易价格: 面议

所属行业: 通信

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:200910112910.8

交易方式: 技术转让 技术转让 技术转让

联系人: 厦门大学

进入空间

所在地:福建厦门市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

  项目简介:

  用于百兆级850nm光通讯的光接收组件和制备方法,提供一种与商业CMOS工艺兼容,可替代现有850nm光收发器中混合集成,可满足传输要求的用于百兆级850nm光通讯的光接收组件和制备方法。光接收组件设850nm光电单片集成接收芯片、管座、管帽、管脚和适配器。芯片设前置放大电路和光电探测器,前者设2个互阻式放大电路、3级差分放大器、输出缓冲电路和直流负反馈电路。光电探测器的纵向自下而上是低掺杂的P型硅衬底;P阱;N型重掺杂硅层、场氧层和铝层;三层SiO2绝缘介质层;Si3N4表面钝化层。采用CMOS工艺将芯片贴片于管座上;将芯片的焊盘与管脚用金丝线键合连接;盖上管帽,与适配器按同轴封装。


  项目简介:

  用于百兆级850nm光通讯的光接收组件和制备方法,提供一种与商业CMOS工艺兼容,可替代现有850nm光收发器中混合集成,可满足传输要求的用于百兆级850nm光通讯的光接收组件和制备方法。光接收组件设850nm光电单片集成接收芯片、管座、管帽、管脚和适配器。芯片设前置放大电路和光电探测器,前者设2个互阻式放大电路、3级差分放大器、输出缓冲电路和直流负反馈电路。光电探测器的纵向自下而上是低掺杂的P型硅衬底;P阱;N型重掺杂硅层、场氧层和铝层;三层SiO2绝缘介质层;Si3N4表面钝化层。采用CMOS工艺将芯片贴片于管座上;将芯片的焊盘与管脚用金丝线键合连接;盖上管帽,与适配器按同轴封装。


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