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[00151410]真空感应熔炼去除硅中磷杂质的方法

交易价格: 面议

所属行业: 其他新能源

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:200910112398.7

交易方式: 技术转让 技术转让 技术转让

联系人: 厦门大学

进入空间

所在地:福建厦门市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

项目简介:
  真空感应熔炼去除硅中磷杂质的方法,涉及一种硅提纯方法。提供一种真空感应熔炼去除硅中磷杂质的方法。将多晶硅放入坩埚中,抽真空,预热后关闭粗抽阀,开启扩散泵阀门抽真空,接通中频感应加热电源,坩埚开始感应生热,对坩埚内的硅原料进行低温预热,当温度上升到600℃时,硅自身感应生热;增加中频加热功率为50~200kW,当温度达到1415℃ 以上时,硅开始熔化;熔化后,调节中频加热功率,使硅液温度控制在1550~1850℃;待温度稳定后,将真空度控制在1.2×10-2~1.0×10-1Pa;开始计时,保温时间为45~120min;在水冷铜盘中通入循环水,然后将熔炼完成的硅液浇注入模具中,快速凝固,即完成。
项目简介:
  真空感应熔炼去除硅中磷杂质的方法,涉及一种硅提纯方法。提供一种真空感应熔炼去除硅中磷杂质的方法。将多晶硅放入坩埚中,抽真空,预热后关闭粗抽阀,开启扩散泵阀门抽真空,接通中频感应加热电源,坩埚开始感应生热,对坩埚内的硅原料进行低温预热,当温度上升到600℃时,硅自身感应生热;增加中频加热功率为50~200kW,当温度达到1415℃ 以上时,硅开始熔化;熔化后,调节中频加热功率,使硅液温度控制在1550~1850℃;待温度稳定后,将真空度控制在1.2×10-2~1.0×10-1Pa;开始计时,保温时间为45~120min;在水冷铜盘中通入循环水,然后将熔炼完成的硅液浇注入模具中,快速凝固,即完成。

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