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[01378903]基于碳化硅三极管的β射线探测器

交易价格: 面议

所属行业: 其他电气自动化

类型: 非专利

交易方式: 资料待完善

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产权明晰
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技术详细介绍

本发明公开了一种基于碳化硅三极管的β射线探测器及其制作方法,主要解决了现有β射线探测器灵敏度低,抗辐照性能差和工作电压高的问题。该β射线探测器自上而下依次包括发射极欧姆接触(1)、掺杂浓度为1×1019~3×1019cm-3发射区(2)、厚0.5μm掺杂浓度为1×1017~5×1017cm-3的p型基区外延层(3)、掺杂浓度为5×1014~5×1015cm-3的n型集电区外延层(4)、掺杂浓度为1×1018~7×1018cm-3的n型高掺杂SiC衬底(5)和衬底背面集电极欧姆接触(6),该发射极欧姆接触(1)由一条水平栅条和多条垂直栅条组成,垂直栅条宽h=5μm,其间距是栅宽的8~12倍,水平栅条宽度为垂直栅条宽度的2~10倍,长度是垂直栅条长度的1~10倍。本发明在300℃高温下工作,抗辐射性强,灵敏度高,工作电压低,可用于辐射监测领域。
本发明公开了一种基于碳化硅三极管的β射线探测器及其制作方法,主要解决了现有β射线探测器灵敏度低,抗辐照性能差和工作电压高的问题。该β射线探测器自上而下依次包括发射极欧姆接触(1)、掺杂浓度为1×1019~3×1019cm-3发射区(2)、厚0.5μm掺杂浓度为1×1017~5×1017cm-3的p型基区外延层(3)、掺杂浓度为5×1014~5×1015cm-3的n型集电区外延层(4)、掺杂浓度为1×1018~7×1018cm-3的n型高掺杂SiC衬底(5)和衬底背面集电极欧姆接触(6),该发射极欧姆接触(1)由一条水平栅条和多条垂直栅条组成,垂直栅条宽h=5μm,其间距是栅宽的8~12倍,水平栅条宽度为垂直栅条宽度的2~10倍,长度是垂直栅条长度的1~10倍。本发明在300℃高温下工作,抗辐射性强,灵敏度高,工作电压低,可用于辐射监测领域。

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