[00134552]用于均匀出气的气体分配器
交易价格：
面议
所属行业：
电子元器件
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：201020547502.3
交易方式：
技术转让
联系人：
中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
进入空间
所在地：江苏苏州市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本实用新型涉及一种用于均匀出气的气体分配器，其一般设置在化学气相淀积设备上的进气段，用来为反应室提供均匀一致的进气。该气体分配器包括相互连通的至少一路进气管和二个以上密闭气体分配腔，所述进气管和气体分配腔沿气流运行方向依次固定连接，相邻两个气体分配腔之间藉一连接壁相互间隔，且所述连接壁面上分布一个以上配气孔。通过调整各体分配腔的高度或长度、各连接壁面上配气孔的排布位置和孔径大小，可使最终的出气流速相等。本实用新型结构简单，易于加工，便于组装维护，成本低廉，可为反应室提供均匀一致的进气，保证化学气相淀积设备进气的均匀性和一致性，利于薄膜的均匀生长。
本实用新型涉及一种用于均匀出气的气体分配器，其一般设置在化学气相淀积设备上的进气段，用来为反应室提供均匀一致的进气。该气体分配器包括相互连通的至少一路进气管和二个以上密闭气体分配腔，所述进气管和气体分配腔沿气流运行方向依次固定连接，相邻两个气体分配腔之间藉一连接壁相互间隔，且所述连接壁面上分布一个以上配气孔。通过调整各体分配腔的高度或长度、各连接壁面上配气孔的排布位置和孔径大小，可使最终的出气流速相等。本实用新型结构简单，易于加工，便于组装维护，成本低廉，可为反应室提供均匀一致的进气，保证化学气相淀积设备进气的均匀性和一致性，利于薄膜的均匀生长。
