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[00131386]光学干涉测量中分光、成像及同步移相的方法和装置

交易价格: 面议

所属行业: 其他电气自动化

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:200710021458.5

交易方式: 技术转让 技术入股 技术转让 技术转让

联系人: 南京师范大学

进入空间

所在地:江苏南京市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

本发明公开了一种光学干涉测量中分光、成像及同步移相的方法:将激光光源输出的偏振化激光束,经扩束后得到线偏振平面光源,然后进入平面偏振光干涉系统得到测试波面与参考波面共束且偏振方面互相垂直的干涉场,此干涉场光束经过四分之一波片和组合棱镜分光系统后分成空间分布均匀、强度均匀的四束光,四束光经检偏器后投射到CCD靶面上,这样经过一次高速采样就得到四幅移相90度的干涉条纹图。同时还公开了实施该方法的装置。本发明方法和装置,原理清晰,方法简单,装置具备小型化。实现了高精度光学干涉的现场动态测量,测量过程更为简单、方便。
本发明公开了一种光学干涉测量中分光、成像及同步移相的方法:将激光光源输出的偏振化激光束,经扩束后得到线偏振平面光源,然后进入平面偏振光干涉系统得到测试波面与参考波面共束且偏振方面互相垂直的干涉场,此干涉场光束经过四分之一波片和组合棱镜分光系统后分成空间分布均匀、强度均匀的四束光,四束光经检偏器后投射到CCD靶面上,这样经过一次高速采样就得到四幅移相90度的干涉条纹图。同时还公开了实施该方法的装置。本发明方法和装置,原理清晰,方法简单,装置具备小型化。实现了高精度光学干涉的现场动态测量,测量过程更为简单、方便。

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