[01168629]一种测量辐射和散射光场三维分布的装置
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技术详细介绍
本发明涉及一种测量辐射和散射光场三维分布的装置,其特征在于：可调光阑6 位于装置底部,钻孔半球壳1位于可调光阑6上,钻孔圆盘3位于钻孔半球壳1之上, 二者之间通过若干光纤连接,透镜5位于圆盘3之上,CCD相机4位于透镜5之上; 在钻孔圆盘3和透镜5之间固定一个法线与装置主轴成45度角的分束镜9,光源系统 7位于分束镜9的一侧,光源功率监测器8与光源系统同轴且位于分束镜9的另一侧。 有益效果在于采用光纤和面阵CCD相机可以快速地测量光源辐射光场的空间分布或 物体表面散射光场的空间分布,在光散射测量过程中利用光源功率监测器对光源的输 出功率进行实时监测从而避免了光源输出稳定性对测量结果的影响。