[00110867]一种类金刚石碳膜制造方法和用其制造的带包覆膜的部件
交易价格：
面议
所属行业：
无机非金属材料
类型：
专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：200510047679.0
交易方式：
技术转让
联系人：
东北大学
进入空间
所在地：辽宁沈阳市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明提供了一种射频等离子体增强化学气相沉积方法,先在基底上沉积一层金属层,依次在金属层上沉积其氮化物层或者碳化物层,再在氮化物或者碳化物层上沉积类金刚石碳膜。本发明还提出了一种用该方法制造的带复合型包覆层的部件,部件的基材可以是金属、陶瓷、玻璃和有机树脂材料。本发明相应地提出了一种实施射频等离子体增强化学气相沉积方法的装置,该装置安装有至少一个金属溅射源,并把真空室分为等离子体生成室和等离子体处理室两个相连通的空间。在等离子体处理室内安有一对大面积的电极板,以确保镀层的均匀性和各向同性。通过调节电压、电流和真空室内Ar、N2和含碳气体组分,可沉积高附着力的类金刚石碳膜。
本发明提供了一种射频等离子体增强化学气相沉积方法,先在基底上沉积一层金属层,依次在金属层上沉积其氮化物层或者碳化物层,再在氮化物或者碳化物层上沉积类金刚石碳膜。本发明还提出了一种用该方法制造的带复合型包覆层的部件,部件的基材可以是金属、陶瓷、玻璃和有机树脂材料。本发明相应地提出了一种实施射频等离子体增强化学气相沉积方法的装置,该装置安装有至少一个金属溅射源,并把真空室分为等离子体生成室和等离子体处理室两个相连通的空间。在等离子体处理室内安有一对大面积的电极板,以确保镀层的均匀性和各向同性。通过调节电压、电流和真空室内Ar、N2和含碳气体组分,可沉积高附着力的类金刚石碳膜。
