[00110439]成膜及电子设备或有机电致发光元件的制造方法
交易价格：
面议
所属行业：
微电子
类型：
专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：200780004105.2
交易方式：
技术转让
联系人：
东北大学
进入空间
所在地：辽宁沈阳市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明提供一种半导体装置的制造方法,其中,为了不向半导体表面照射光而进行遮光并同时利用液体进行表面处理。本发明如果用于半导体表面的清洗、蚀刻、显影等湿式制程(WETPROCESS)的表面处理,则可以减低表面微粗糙度的增大。这样,可以提高半导体器件的电特性或成品率。
本发明提供一种半导体装置的制造方法,其中,为了不向半导体表面照射光而进行遮光并同时利用液体进行表面处理。本发明如果用于半导体表面的清洗、蚀刻、显影等湿式制程(WETPROCESS)的表面处理,则可以减低表面微粗糙度的增大。这样,可以提高半导体器件的电特性或成品率。
