技术简介： 本发明公开了一种采用原子层沉积原位制备超顺磁Fe3O4纳米管阵列的方法，属于纳米管阵列制备技术领域。包括以下步骤1)将洁净的AAO基片送入原子层沉积设备中，备用；2)将二茂铁蒸汽和氧气通入原子…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种在Cu薄膜体系中生成Cu三角晶体的方法，首先在具有晶向的基底上沉积Cu薄膜；随后在Cu薄膜上沉积一层还原性较强的其他材料的薄膜，用以防止Cu薄膜在高温下被氧化；然后采用热处理…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开一种医用不锈钢刀锯表面形成非晶四面体碳薄膜的方法，经过预处理、离子清洗、电弧放电和碳离子沉积完成，采用该方法制备的非晶四面体碳薄膜，结合强度高，生物特性优异，具有良好的耐…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开一种高应变容限柱状组织的热障涂层的制备方法，该热障涂层呈现带有柱间孔隙的柱状组织从而具有高应变容限。本制备方法在腔室气压10‑5000Pa下，以含有单原子和/或原子团簇的涂层材料…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种灭弧室用铜钨电触头材料的表面镀层处理方法，包括制备铜钨合金触头材料作为基底材料；机械抛光、清洗烘干；放入真空腔体中在氩气气氛下利用铬靶、镍靶或钛靶在基体上沉积铬层、…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种用于HR‑2抗氢钢的金相腐蚀液及其配制方法和腐蚀方法，属于金相腐蚀液技术领域。金相腐蚀液由硝酸、盐酸和蒸馏水组成，各组分的体积比为135。腐蚀方法，包括以下步骤1)将HR‑2…… 查看详细 >
技术简介： 本发明提供一种镁及其合金的防腐蚀方法及MgCO3层作为抗腐蚀层的应用，将CO2气体等离子体化来提高其反应活性，使之在常温下与金属镁表面在空气中自然氧化生成的疏松多孔的MgO膜发生反应生成MgCO3…… 查看详细 >
超低气氛下的高能高速等离子射流沉积SiC涂层及其制备方法和应用
技术简介： 本发明公开了一种超低气氛下的高能高速等离子射流沉积SiC涂层及其制备方法和应用，属于材料加工、机械制造领域。该方法以SiC陶瓷粉末为原料，用高能等离子将其快速加热至分解温度以上使其分解后…… 查看详细 >
技术简介： 本实用新型提供了一种水热法合成催化剂的批量制备装置,由物料混合单元、高温高压反应单元、废气吸收单元及超滤单元四个部分组成；由于目前单批次合成光催化剂均在数克到十数克量级，无法将催化…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种rGO负载花瓣状MoS2异质结构的制备方法，用于提高光催化降解有机染料的效率。它是采用一步水热反应合成并通过退火处理提高结晶程度的处理方法，形成了花瓣状MoS2团簇与rGO相互缠…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种具有高产氢活性且无需负载贵金属的铜掺杂硫锌镉光催化剂，制得该铜掺杂硫锌镉光催化剂的化学表达式为CdxCuyZn1－x－yS，其中：0＜x+y＜1，Cd∶Cu∶Zn为任意比。本发明制备的铜…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种CdS/Ti－MCM－41载铂新型复合催化剂及其制备方法：首先以CTAB作为模板剂，利用水热法合成CTAB/Ti－MCM－41。将CTAB/Ti－MCM－41在甲醇沸点下用离子交换方法得到Cd2+交换的Ti－M…… 查看详细 >